AI 服务器 & HPC 极限纵横比电镀系统
平台采用分段脉冲电场与高流量贯穿流场,强化深孔内药水交换,改善超厚板深孔金属化的一致性。
适合高层数服务器背板、HPC 主板与极限深孔应用,支持稳定量产节拍与关键参数复用。
通过脉冲波形与流场设计,提升高纵横比深孔内铜层覆盖和厚度均匀性。
面向 TP ≥ 90% 的深镀目标建立参数窗口,降低厚板批量生产的波动。
支持高价值背板连续处理,兼顾产能、药水效率与异常恢复能力。